イオン注入

各種イオン注入装置を用い、幅広いイオン注入の要求にお応えするとともに、
豊富な分析装置を揃え、分析サービスを提供いたします。

イオン注入サービス

ドーパント元素 N、C、F、P、As、B、Ge、Si、Sb、In、O、H、など
加速エネルギー 200eV ~ 4.6MeV

※イオン種、ウェーハサイズにより制約があります。

分析サービス

シート抵抗測定、結晶欠陥測定、表面の異物分析、不純物プロファイル分析、微量成分分析、膜厚測定
※使用測定器によりウェーハサイズ等の制約があります。

主要設備

設備名 型式 メーカー
高電流イオン注入装置 LEX3 株式会社SEN
高電流イオン注入装置 LEX 株式会社SEN
高電流イオン注入装置 NV-GDSⅢ-LED 株式会社SEN
高電流イオン注入装置 NV-GSD-HC3 株式会社SEN
中電流イオン注入装置 MC3シリーズ 株式会社SEN
高エネルギーイオン注入装置 NV-GSD-HE3 株式会社SEN
高エネルギーイオン注入装置 NV-GSD-HE 株式会社SEN
ウエハ表面検査装置 LS-6800 株式会社日立ハイテクノロジーズ
TXRF分析装置 TREX630 株式会社テクノス
ICP-MS Agilent 7500CS 横河アナリティカルシステムズ株式会社
ウエハレビューSEM(EDS分析) RS-3000 株式会社日立ハイテクノロジーズ
走査型電子顕微鏡(EDS分析) JSM-5800LV 日本電子株式会社
シート抵抗測定器 RS-100 KLA Tencor株式会社
TW測定装置 TP630 KLA Tencor株式会社
膜厚測定装置分光エリプソ UT-300 株式会社堀場製作所
RTP SUMMIT 300XT Axcelis Technologies
RTP Reliance850 Axcelis Technologies
縦型炉 VF-1000 光洋サーモシステム株式会社

代表的な設備